中商情报网讯：溅射靶材是指通过磁控溅射等镀膜系统在适当工艺条件下溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。溅射靶材广泛应用于半导体集成电路、平面显示、太阳能电池、信息存储、低辐射玻璃等领域，是国家重点支持和鼓励发展的行业。
一、溅射靶材行业概况
1.溅射靶材的定义
溅射靶材是指通过磁控溅射等镀膜系统在适当工艺条件下溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。
溅射靶材主要由靶坯和背板构成。靶坯系射靶材中的核心部分，是溅射镀膜过程中高动能离子束流轰击的目标材料，靶坯被离子撞击后，表面的原子被溅射出来并沉积于基板表面形成薄膜。背板主要用于固定支撑靶坯材料、导热、导电，一般由金属材料制成，因溅射靶材需安装在专用的溅射镀膜设备内完成溅射过程，设备内部为高电压、高真空的工作环境,多数靶坯的材质较软、脆性高、导电导热性较差等,不适合直接安装在设备内使用，因此需与背板绑定。
2.溅射靶材的分类
溅射靶材必须配套专用的溅射镀膜设备方可进行溅射镀膜。溅射靶材按形状可分为平面靶和旋转靶；根据是否需要绑定背板或背管，可分为一体靶和绑定靶。
资料来源：中商产业研究院整理
3.溅射靶材的应用领域
作为各类薄膜工业化制备的关键材料，溅射靶材广泛应用于半导体集成电路、平面显示、太阳能电池、信息存储、低辐射玻璃等领域,各应用领域对溅射靶材的制备技术、产品性能等要求各异。
资料来源：中商产业研究院整理
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