3.高性能溅射靶材
高性能溅射靶材是制备半导体晶圆、显示面板等表面电子薄膜的关键材料，应用于电子元器件制造的物理气相沉积工艺。在国家政策支持以及下游众多应用领域需求的支撑下，高性能溅射靶材市场规模不断扩大。数据显示，中国高性能溅射靶材市场规模由2016年的98.9亿元增长至2020年的201.5亿元，年均复合增长率为19.5%。预计2022年将达288.1亿元。
数据来源：中商产业研究院整理
4.光刻机
光刻机是制造芯片的核心装备。目前，光刻机市场是典型的“三分天下”格局。ASML、尼康（Nikon）、佳能（Canon）市场占有率超过90%，是典型的寡头垄断市场，而ASML更是垄断最高端的极紫外（EUV）光刻机市场。Nikon与Canon分别占据10.4％和10.2％的市场份额
数据来源：中商产业研究院整理
资料来源：中商产业研究院整理
此外，上海微电子是中国技术最领先的光刻设备厂商，主要产品是SSX600系列步进扫描投影光刻机，可满足集成电路前道制造90nm、110nm和280nm光刻工艺需求，可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。
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