二、上游分析
1.主要组件
光刻机生产制造的技术要求极高，ASML一台光刻机包含了10万个零部件，需要40个标准集装箱才能装下，涉及到上游5000多家供应商，比如德国的光学设备与超精密仪器，美国的计量设备与光源等。一台光刻机的主要部件包含测量台与曝光台、激光器、光束矫正器、能量控制器等11个模块。
资料来源：中商产业研究院整理
2.光源
高端光刻机含有上万个零部件，而光学镜片则是核心部件之一，高数值孔径的镜头决定了光刻机的分辨率以及套值误差能力；光源则是高端光刻机另一核心部件，光源波长决定了光刻机的工艺能力。光刻机需要体积小、功率高而稳定的光源。
随着光源、曝光方式不断改进，光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。目前行业内使用最多的是第四代浸入式光刻机，最高制程可达7nm，在7nm之后芯片厂商必须使用最顶级的EUV光刻机。EUV光刻机主要技术优势如下：更高的光刻分辨率；生产效率高，光刻工艺简单。但同时EUV光刻机也存在着许多问题：耗能巨大，能量利用率低；光学系统设计与制造复杂；光罩掩模版表面缺陷。
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