中商情报网讯:光学掩模版在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC、FPD、PCB、MEMS等。
市场规模
随着半导体产业整体需求持续扩张,全球光掩模板规模表现为稳步增长趋势,行业整体技术壁垒深厚,产业集中度高,龙头议价能力高,利润水平高,数据显示,2020年全球光掩膜版市场规模达41.88亿美元,预计2023年将达51亿美元。
数据来源:SEMI、中商产业研究院整理
竞争格局
市场主要为美国Photronics、日本DNP以及日本Toppan三家公司所垄断,占比分别为32%、27%和23%。而国内半导体掩模版行业发展较为落后,仅部分公司在面板领域实现较好的技术和客户突破,而半导体领域极度依赖海外进口。
数据来源:中商产业研究院整理
更多资料请参考中商产业研究院发布的《中国光掩模行业市场前景及投资机会研究报告》,同时中商产业研究院还提供产业大数据、产业情报、行业研究报告、行业白皮书、商业计划书、可行性研究报告、园区产业规划、产业链招商图谱、产业招商指引、产业链招商考察&推介会等服务。